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磁控濺射鍍膜與等離子體化學(xué)氣相沉積鍍膜的區(qū)別？

我就知道一個是物理氣相沉積，一個是化學(xué)氣相沉積，其他的都不是很了解，他們的具體原理上的區(qū)別？
問 提問者：網(wǎng)友 2017-06-21
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樓主概念不對膜層一般為蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、噴涂鍍膜、電離鍍膜等方法。濺射鍍膜過程中，在靶與基體之間形成了含有離子、電子、中性原子團(tuán)組成的對外顯中性的氣體，這就是等離子體。濺射鍍膜過程分為物理氣象沉積、化學(xué)氣象沉積、物理/化學(xué)氣象沉積他們都是在等離子體中形成的。物理氣象沉積，是等離子體中的正離子轟擊靶表面轟擊來的分子/原子濺射到基體表面，飛行過程中并為發(fā)生任何反應(yīng)?；瘜W(xué)氣象沉積，是等離子體中的正離子轟擊靶表面轟出來的分子/原子濺射到基體表面，飛行過程中發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)。不過一般的磁控濺射都是物理、化學(xué)氣象沉積的共同結(jié)果。我這樣說樓主是否能夠清楚一些？
回答者：網(wǎng)友
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